一、项目概况
项目名称：8英寸集成电路用硅外延片产业化项目
项目位置：项目位于石家庄鹿泉区昌盛大街21号石家庄信息产业基地普兴公司一、二两个厂区内，其中一厂区为普兴公司现有厂房，安装7台外延炉及制氢装置，厂区中心坐标东经114°21′30.8″，北纬38°03′12.8″；二厂区为租用同辉公司（隶属于十三所）现有厂房，安装8台外延炉，厂区中心坐标东经114°21′34.4″，北纬38°03′06.5″。
项目性质：扩建
项目的主要建设内容及建设规模为：本项目生产方法采用气相外延法生产优质外延片。该工艺利用加热来提供化学过程所需的能量，即通过高温下的化学气相反应，在抛光的硅单晶片上生长一层或多层与硅晶格匹配、结晶完美的硅单晶薄膜。制氢装置采用天然气中甲烷经水蒸气转化，变压分子筛吸附得到高纯氢气为外延炉提供氢气。本项目总投资10000万元，利用已有空闲场地400平方米，新建1200平方米，计划采购外延炉15台及制氢装置1台套，实现年产8英寸集成电路用外延片50万片的生产能力。
二、建设单位名称和联系方式
建设单位：河北普兴电子科技股份有限公司
联系人及联系方式：梁寒    电话：15003213236
邮箱：5051510@qq.com
三、评价单位名称和联系方式
评价单位：石家庄环安科技有限公司
联系人及联系方式：李江浩    电话：13754415827
邮箱：lijianghao@163.com
四、环境影响评价的工作程序和主要工作内容
工程环评工作程序：在环境质量现状调查以及项目工程分析的基础上，根据环境影响预测结果，结合公众参与调查结果，给出项目环境可行性的评价结论并提出环境保护措施与建议。
主要工作内容：本次评价内容主要包括概述、总则、建设项目工程分析、环境现状调查与评价、环境影响预测与评价、环境保护措施及其可行性论证、环境影响经济损益分析、环境管理与监测计划、环境影响评价结论等。
五、征求公众意见的主要事项
为听取社会各界对该项目环境保护方面的意见和建议，特将本项目公示，征求公众宝贵的想法和建议。非环境保护方面的内容不在本次征求范围内。
六、公众提出意见的主要方式
以信件、传真、电子邮件、电话等形式反馈给建设单位，请公众在发表意见的同时提供详尽的联系方式，以便我们及时向您反馈相关信息。建设项目环境影响评价公众意见表下载链接如下：
链接：https://pan.baidu.com/s/1lEx0k43dEvKEgJUxl9th5Q 
提取码：xb0v 
七、公开日期：2021年12月19日起。