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普兴公司再创佳绩,“十三五”完美收官 [2021-02-23]
--记普兴公司2020年12月份各项目标任务圆满完成 普兴公司自9月份以来各项经营指标持续攀升,整体运营呈现出快速增长的态
普兴公司6英寸碳化硅外延高速率生长工艺... [2021-02-23]
碳化硅(SiC)作为第三代半导体材料的典型代表,具有禁带宽度宽(3 26 eV)、击穿电场强度大(2 8 MV cm)、饱和电子迁移速度快(2 2*107
普兴公司第14届乒乓球比赛完美落幕 [2021-02-23]
为丰富员工的业余文化生活,提高员工身体素质,展现员工自我风采,日前普兴公司工会组织开展了第14届普兴杯乒乓球比赛。乒乓球比赛是普兴公
全面升级,马力全开, 普兴公司外延业... [2021-02-23]
根据公司十三五发展规划,公司不断进行产品结构调整和产品性能提升工作。2019年,半导体材料行业遇周期性的市场波动,全产业链需求低靡。普
普兴公司“扩规模”、“增产能”、“创... [2021-02-23]
12月1日,普兴公司二厂二期新厂房迎来了5台硅外延新设备,吹响了普兴大干30天,打赢收官战的号角,为实现公司全年产能效益目标贡献力量。新
我国第三代半导体材料制造设备取得新突破 [2017-11-06]
通常,国际上把碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)等宽禁带半导体材料称之为第三代半导体材料。其在禁带宽度、击穿场强、电子饱和漂移速度、热导率等...
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